Fluorid dusnatý (NF3) vysoce čistý plyn
Základní informace
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Co je to za materiál?
Fluorid dusnatý (NF3) je při pokojové teplotě a atmosférickém tlaku bezbarvý plyn bez zápachu. Může být zkapalněn pod mírným tlakem. NF3 je za normálních podmínek stabilní a nerozkládá se snadno. Při vystavení vysokým teplotám nebo v přítomnosti určitých katalyzátorů se však může rozkládat. NF3 má při uvolnění do atmosféry vysoký potenciál globálního oteplování (GWP).
Kde tento materiál použít?
Čisticí prostředek v elektronickém průmyslu: NF3 se široce používá jako čisticí prostředek pro odstraňování zbytkových nečistot, jako jsou oxidy, z povrchů polovodičů, plazmových zobrazovacích panelů (PDP) a dalších elektronických součástek. Dokáže tyto povrchy efektivně vyčistit, aniž by je poškodil.
Leptací plyn při výrobě polovodičů: NF3 se používá jako leptací plyn ve výrobním procesu polovodičů. Je zvláště účinný při leptání oxidu křemičitého (SiO2) a nitridu křemíku (Si3N4), což jsou běžné materiály používané při výrobě integrovaných obvodů.
Výroba vysoce čistých sloučenin fluoru: NF3 je cenným zdrojem fluoru pro výrobu různých sloučenin obsahujících fluor. Používá se jako prekurzor při výrobě fluoropolymerů, fluorouhlovodíků a speciálních chemikálií.
Generování plazmy při výrobě plochých displejů: NF3 se používá spolu s dalšími plyny k vytvoření plazmy při výrobě plochých displejů, jako jsou displeje s tekutými krystaly (LCD) a PDP. Plazma je zásadní v procesech nanášení a leptání během výroby panelů.
Upozorňujeme, že konkrétní aplikace a předpisy pro použití tohoto materiálu/produktu se mohou lišit podle země, odvětví a účelu. Vždy dodržujte bezpečnostní pokyny a před použitím tohoto materiálu/výrobku v jakékoli aplikaci se poraďte s odborníkem.
